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日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S 鍍膜機(jī)

日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S 鍍膜機(jī)

更新日期:2024-05-16

訪問量:1114

廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址:

簡要描述:
日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S
本設(shè)備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設(shè)備進(jìn)行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。

日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S

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本設(shè)備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設(shè)備進(jìn)行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外,樣品臺(tái)是浮動(dòng)的,以減少電子束流入對(duì)樣品造成的損壞。操作簡單,只需按下按鈕,沒有任何技巧。它很小,不占用太多空間。在桌子的一角活躍。
用途
用于 SEM 樣品的金屬鍍膜設(shè)備。

日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S

規(guī)格

物品規(guī)格
電源AC100V(單相100V 10A)3P插頭帶地線1口
旋轉(zhuǎn)泵10 L/min(內(nèi)置于設(shè)備中)
設(shè)備尺寸寬200mm x 深350mm x 高345mm
(設(shè)備重量:14.6Kg)
樣品室尺寸內(nèi)徑120mm x 高65mm(硬玻璃)
樣本表大小直徑50mm(浮動(dòng)法)
電極樣品臺(tái)間隔35 mm(使用輔助樣品臺(tái)時(shí)為 25 mm)
靶電極內(nèi)置永磁體的磁控管型靶電極
目標(biāo)金屬規(guī)格Φ51mm,厚度0.1mm
Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag

本設(shè)備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設(shè)備進(jìn)行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外,樣品臺(tái)是浮動(dòng)的,以減少電子束流入對(duì)樣品造成的損壞。操作簡單,只需按下按鈕,沒有任何技巧。它很小,不占用太多空間。在桌子的一角活躍。
用途
用于 SEM 樣品的金屬鍍膜設(shè)備。

規(guī)格

物品規(guī)格
電源AC100V(單相100V 10A)3P插頭帶地線1口
旋轉(zhuǎn)泵10 L/min(內(nèi)置于設(shè)備中)
設(shè)備尺寸寬200mm x 深350mm x 高345mm
(設(shè)備重量:14.6Kg)
樣品室尺寸內(nèi)徑120mm x 高65mm(硬玻璃)
樣本表大小直徑50mm(浮動(dòng)法)
電極樣品臺(tái)間隔35 mm(使用輔助樣品臺(tái)時(shí)為 25 mm)
靶電極內(nèi)置永磁體的磁控管型靶電極
目標(biāo)金屬規(guī)格Φ51mm,厚度0.1mm
Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag



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